FUJIFILM XF 56/1,2 R WR

Takket være en helt ny optisk konstruktion, den lange erfaring og den avancerede teknologi bag udviklingen af FUJINON-objektiver, er dette objektiv er bygget til at give den højest mulige skarphed og opløsning og tegne en blød og behagelig bokeh. Det gør dette objektiv til det perfekte valg for portrætfotografen. Den nye optiske konstruktion gør det muligt at komme så tæt på som 50 cm fra sensoren, hvilket er en forbedring på 20 cm fra det tidligere objektiv. Nu kan du bedre udfylde hele billedet med dit motiv i forhold til tidligere og kombineret med høj lysstyrke kan du virkelig opnå en ekstrem lille dybdeskarphed og isolere dit motiv.

Objektivets konstruktion er forbedret på flere punkter i forhold til den tidligere model og består af 13 elementer i 8 grupper, et ED-objektivelement og to sfæriske objektivelementer for at minimere forekomsten af kromatisk aberration og give enestående detaljegengivelse fra kant til kant. HT-EBC, en overfladebehandling, er påført 3 objektivelementer, noget der ellers kun findes i broadcast-objektiver. Dette sker for at få en høj kontrast og lav refleksion af indirekte lys.

En anden vigtig ønsket egenskab ved objektiver med høj lysstyrke er, at den slørede baggrund ikke indeholder såkaldte “løg-ringe" og kromatisk aberration, noget der blev prioriteret under udviklingen af det nye objektiv. Det nye FUJINON XF56mmF1.2 R WR er det første objektiv fra FUJIFILM, der har 11 blændeblade, sammenlignet med 7 på det tidligere objektiv, for at kunne gengive en blød og cremet bokeh, selv når den er nedblændet.